第三百四十六章 挖光刻胶友商祖坟？陈星还让不让人活 (第2/5页)
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解让陈星收获了掌声与称赞，不过他也只是停顿了片刻，待现场掌声稍稍减弱，他压了压手，示意安静下来道：
“现在大家都对光刻抗阻有了一定的认知，那我就不得不再提光刻抗阻为什么可以反应出纯度，亦或者说品质。”
“玩过光源聚焦的都知道，光束越集中，单点能量就越强，这个大家可以拿个放大镜去聚焦太阳光，我就不过多赘述了。”
“目前的光刻机光源，分为已经半淘汰的248纳米，主要用于90纳米以上的光刻，其次是193纳米光源和13.5纳米光源，这里值得注意的是，13.5纳米光源只有EUV光刻机可以做到。”
“光源越小，能量密度越高，相对应的精准度也会越高，这就给我们光刻工程师提供了更高工艺水准芯片的温床，14纳米工艺芯片用的就是13.5纳米光源。”
“之前我也提到了，光束越集中，光刻的能量就越强，如果光刻胶抗阻型弱，是不是很容易造成半导体硅片污染？”
问题抛出，全场来宾都微微颔首，认同陈星的说法。
罗浩更是凑近雷布斯，小声感慨道：“还别说，陈老弟完全可以去高校当教授了，居然连我都听得懂什么叫光刻抗阻。”
“这就叫积累，好好学吧。”
雷布斯淡淡回应。
陈星不拿任何提示稿件，现场也没有提词器，却可以把光刻抗阻讲述这么透彻，要说没下苦功夫那是不可能的。
而在所有观众对光刻抗阻和光源有了一定认知后，陈星继续讲述道：“因此想要造7纳米、5纳米甚至是3纳米芯片，光刻胶的抗阻性必须要跟上工艺进度，所以我们这款10^25光刻胶理论支持…”
陈星按下手心的遥控器，LED屏幕弹出具体参数的瞬间，快速开口道：“3纳米。”
“！！！”
“嘶！！！”
现场惊呼声，倒吸凉气声交织，宛如一场口技盛宴，每个人都贡献自己的声音。
任国非闪烁惊讶目光的同时，喃喃自语道：“这小子没开玩笑，他可能真在搞3纳米芯片。”
“这…”
雷布斯惊得说不出话。
罗浩、段勇平、陈永、王福等老总同样如此，一时间都被这个消息震慑住了。
当初陈星回应裤克，提出3纳米芯片的世纪赌约，几乎没有业内老总认为陈星可以办得到。
3纳米芯片什么概念？
这得有EUV光刻机吧？
龙兴科技没有。
还要有高纯度光刻胶吧？
龙兴科技也没有。
最后还得设计相应集体电路图，具备熟练的生产工艺吧？
前面芯片设计不好说，后面的光刻生产工艺，龙兴科技同样不具备这个条件。
在种种因素制约下，所有人都当陈星是口嗨。
可万万没想到，他们觉得的口嗨行为，却是陈星手上一张张没有曝光的底牌。
12寸半导体硅片很大？
16寸够不够？
不够还有20寸的。
10^15抗阻的光刻胶只能应用于14纳米芯片？
10^25光刻胶了解一下？
现在他们严重怀疑，陈星连光刻机也攻克了，那句“3纳米芯片”可能不是空谈。
……
远在大洋彼岸的库比蒂诺，住在别墅区的裤克已经呆若木鸡，整个人愣住了。
14N16寸和20寸半导体硅片，10^25最高支持3纳米工艺芯片光刻的光刻胶。
陈星没吹牛。
他真的在搞3纳米芯片。
裤克和其他人一样，都不相信龙兴科技具备3纳米芯片的研发条件，因为限制太多了。
可看了“阴间发布会”，他现在想揪着陈星衣领问：“你到底还有多少底牌没打出来？”
“呵呵…”裤克苦笑一声，突然意识到双方的差距，如果真是10^25光刻胶，那世纪赌约他可能输一半了，陈星是真有东西的。
不等裤克回过神，陈星像似又一次预料到会有人质疑，再次自证道：“我相信有很多同行友商都在关注这场直播，和半导体硅片一样，我们上机器实测。”
话音落下。
工作人员再次推出设备。
“这叫光刻胶抗蚀剂测量仪，还有光刻胶厚度测量仪，下面由我来进行实测。”
裤克：“……”
藤井小山：“……”
黄任勋：“……”
沉默了。
再次集体沉默了。
什么叫实力？
这就叫做有实力。
走黑粉的路，让黑粉无路可走，喜欢质疑品质，那他陈星就亲自打假看看。
经过一通操作，连接的礼堂LED屏幕出现了相关参数，的的确确到达了10^25的抗阻。
陈星
