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代替光刻机!
高正谦也闪过抹意外,急忙追问道:“也就是说,这光刻工厂有13.5纳米波长的极紫外光?”
“不!”
陈星摇了摇头,全盘托出道:“它不仅有13.5纳米波长的极紫外光,它还有3纳米、7纳米、10纳米、20纳米、28纳米,甚至连48纳米的深紫外光都有。”
高正谦:“……”
顾仁:“……”
众首席:“……”
他们彻底懵逼了。
这光刻工厂到底什么玩意,居然可以发出这么多光源,他们真的闻所未闻。
陈星看着他们惊讶的表情,浇了盘冷水道:“我们只测试了13.5纳米波长的极紫外光,其他光源都没有测试,而且光刻工厂还存在能源问题,所以保守点,设计7纳米芯片是最稳妥的。”
在他看来,哪怕其他光源不能使用,只要13.5纳米的极紫外光能用就行了。
因为有多重曝光技术,13.5纳米波长的极紫外光,理论光刻极限是3纳米的芯片。
但光刻3纳米芯片,需要四块光掩膜版配合,光刻步骤和成本太大了,7纳米只需要一次,各方面的性价比都是最高的。
然而。
高正谦不这样想。
只见他双手放在桌面,表情严肃道:“既然13.5纳米的极紫外光已经验证成功,那7纳米、5纳米,甚至是3纳米的极紫外光肯定也八九不离十,我建议是要么上5纳米,要么就是3纳米拉满。”
“这个是狼人。”
顾仁心中喃喃自语。
其他首席也被这番话惊到,3纳米拉满这句话太可怕,这已经是要挑战晶体管极限了。
因为纳米等级越小,栅极就会越小,一旦栅极过小,就会发现漏电的情况。
而芯片的计算,其实就是0和1,一旦某个栅极漏电出错,计算的数据就会不同。
根据世界半导体联盟发布的期刊内容,它们认为晶体管最小纳米是3纳米,一旦超过3纳米,也就是3纳米以下,就有可能出现隧穿效应,导致漏电的情况发生。
“有把握吗?”
陈星尊重高正谦的选择。
他也相信,林天的光刻工厂是可以制造3纳米芯片的,因为这两人从来没有让他失望过。
“100%!”
高正谦嘴角带笑回应。
刚说完,他讲述道:“根据我的研究,晶体管极限可能是在2纳米,也有可能是在1纳米,但绝不可能是3纳米,设计3纳米芯片,我有100%的信心可以完成。”
“好!”
陈星重重点头,委派任务道:“既然这样,那高首席伱们团队负责3纳米芯片的研发,项目代号为华夏,六个月内,我需要见到芯片的电路设计图。”
他本想着求稳,但既然高正谦都这样说了,他也愿意承担未来可能发生的风险。
哪怕光刻工厂的3纳米极紫外光不能使用,他还有多重曝光技术,3纳米芯片是肯定能造的,只不过是成本多少的问题罢了。
“六个月,足矣。”高正谦淡淡回应,他的嘴角依旧挂着那抹标志性的笑容。
(本章完)