第205章 深挖芯片材料，进军东南亚效仿 (第1/3页)
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第205章 深挖芯片材料，进军东南亚效仿大米？
“如果要用一句话概括，那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”
当陈星听见这句话那刻，心中也泛起了波澜。
因为没有13.5极紫外光的EUV光刻机，各个环节都需要配合多重曝光技术去设计。
想弄更先进的光刻胶？
不好意思。
48纳米DUV光刻机不支持！
因为48纳米的DUV光刻胶照射出来的光源是193纳米，如果光刻胶不能适配这个数值，那将无法参与芯片生产。
“辛苦了。”
纵使有千言万语，陈星也只能化作这三个字。
他已经打定主意了，只要光刻工厂宣布建设完成，并投入使用那刻，就是彻底与西方摊牌，半导体领域全面反击的时刻。
“职责所在。”朱明月淡淡一笑，又拿起旁边的罐子道：“刚才的是正胶，这罐是反胶，总裁可以带回去试试效果。”
虽然光刻胶种类多，大致分为六种，不过40纳米以下芯片用的光刻胶一般都是ArF光刻胶，而它又区分正反胶。
何为光刻正反胶？
就比如说ArF光刻胶的正胶，它被紫外光照射后，照射区域的化学性质会变得容易溶解，因此经过曝光的区域会被移除，形成电路图案，未曝光的区域则保持不变，形成所需的结构。
至于ArF光刻胶的反胶，它被紫外光照射则截然相反，未曝光区域的化学性质变得容易溶解，因此未经曝光的区域会被移除，形成图案，经曝光的区域则保持不变，形成所需的结构。
光刻正反胶，它们分别对应了不同的光刻生产工艺，也是硅片曝光的必备。
“对了。”
朱明月在拿出光刻胶后，还不忘提一嘴道：“这款光刻胶阻抗是10的20次方，领先JSR株式会社、TOK东京应化5个次方。
“阻抗越高，就代表光刻胶纯度越高，纯度不足就会造成硅片污染，这款光刻胶总的来说就四个字，遥遥领先。”
“遥遥领先…”
陈星听见后难掩心中激动。
前有16英寸半导体硅片，后有10^20ArF光刻胶，芯片生产原材料方面算是初步闭环了。
为什么说初步闭环，而不是说全面闭环？
那是因为光刻胶主要成分是感光树脂、光敏剂，溶剂，这里面还有材料细分。
就比如说感光树脂，它的成分是甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯，同样依赖半岛进口。
光敏剂同样如此，被东洋合成工业株式会社、富士胶片垄断，均是霓虹岛国企业。
芯片领域越往下深挖就会发现，龙国落后的可不是一星半点。
上到光刻机、EDA软件，下到半导体硅片、光刻胶等配套试剂。
你以为这就完了？
合成光刻胶的化学材料，也被人家所垄断。
这也就是为什么，陈星不急于公开芯片材料技术的原因。
因为还有底层的东西没解决，就不适合太张扬。
目前来说，提供为甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯的外国企业还没有断供，因为这些材料不仅仅可以用来制作光刻胶，还能用来医用，甚至也可以运用到石墨和涂料，不能算完全的半导体材料。
这也是为什么，这些企业没有参与联合制裁。
因为现在谁也想不到，龙国企业的工业底子已经可以生产10^20ArF光刻胶，如果让它们知晓肯定会限制。
……
当回过神，平复心情后，陈星也如获至宝般拿起瓶子，询问道：“甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯和光敏剂怎么样？能够近期攻克吗？”
“快了。”
朱明月闪过抹犹豫，没敢明确回复日期。
因为目前的龙兴化工，设备和人手都略显不足。
光刻胶不比半导体硅片，它的设备和技术封锁是最严重的，甚至比光刻机还要严重。
要知道，无论是芯片生产，还是光掩膜版制造，都离不开光刻胶的参与。
它就像是一只笔，光刻机则是握住笔的手，半导体硅片就是纸，没有笔的参与，要光刻机和半导体硅片也没用。
当然了。
半导体硅片和光刻机同样重要。
不过因为龙国是工业强国，半导体硅片领域也有自己产品，6和8英寸还是可以自产的。
但还是那句话，有替代品和没替代品，那是两种概念。
陈星也听出了他的底气不足，淡然一笑道：“缺设备还是缺人？缺人我现在就可以找。”
虽然定向招募只能招募手机细分领域，不包括工业和化工，但可以在普通人才市场砸钱，有钱还怕出不了人才？
“设备。”
朱明月脱口而出。
现在龙兴化工底子太薄了，
